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研磨抛光在很多精密工业产品生产中必不可少,尤其CMP抛光是半导体先进制程中的关键技术,随着半导体产业的发展,研磨抛光材料市场规模持续扩大。
人工智能和5G时代的到来,对光学元件、触摸屏、液晶显示面板、光纤信号放大器等提出更高要求,稀土氧化铈因其合适的硬度和化学活性,成为玻璃、硅片、石材、漆面等首选的抛光材料;硅溶胶作为CMP抛光液的重要组成部分,在超大规模集成电路硅衬底及层间电介质、浅沟槽隔离绝缘体、导体和镶嵌金属等全局平坦化过程中的有着重要的应用;氧化铝粉体在五金、宝石及精密玻璃等行业不可替代;碳化硼、立方氮化硼、金刚石等超硬材料也在不断拓展在抛光领域的应用潜力。
受益于5G通讯、半导体、人工智能、军工等新兴产业本身的需求拉动,研磨抛光材料市场放量在即,机遇值得把握。粉体圈、中国电子材料行业协会粉体技术分会诚邀您参与2023年9月18-19日在东莞举办的“2023年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛”,共同探讨抛光领域的市场发展走向及CMP抛光关键材料的创新关键及国产化。
会议时间
2023年9月18-19日
会议地点
海悦花园大酒店(厚街万达店)
(广东省东莞市厚街镇厚街大道东2号)
主办单位
粉体圈(珠海铭鼎科技有限公司)
中国电子材料行业协会粉体技术分会
赞助单位
上海映智研磨材料有限公司
丹东百特仪器有限公司
深圳市叁星飞荣机械有限公司
上海儒佳机电科技公司
北京精微高博仪器有限公司
东莞市琅菱机械有限公司
珠海真理光学仪器有限公司
支持单位
长沙西丽纳米研磨科技有限公司
无锡晨颖机械科技有限公司
媒体支持单位
爱锐网
参会对象
1、氧化铝、二氧化硅、稀土、氧化锆、超硬抛光材料等粉体生产企业技术负责人;
2、研磨抛光材料产业科研机构及高校相关课题组;
3、抛光液、抛光垫、抛光膏等下游产品研发、生产、应用企业负责人;
4、粉碎、分级、颗粒检测设备企业负责人;
5、抛光产品的下游应用单位。
会议议题
1、抛光材料的产业现状与发展趋势;
2、粉体表面处理技术与设备;
3、CMP抛光液的制备与应用;
4、高端精密零部件的纳米抛光技术发展现状;
5、氧化铝粉体在研磨抛光领域中的应用;
6、二氧化硅粉体在研磨抛光领域中的应用
7、超硬材料在研磨抛光领域中的应用;
8、稀土材料在研磨抛光领域中的应用;
9、板状氧化铝的制备及在晶圆磨抛中的应用;
10、硅溶胶的制备及其在CMP抛光中的应用;
11、纳米金刚石抛光液的制备与应用;
12、半导体领域对抛光材料的需求;
13、抛光产品在汽车表面处理领域中的应用;
14、氧化锆陶瓷微珠在抛光领域中的应用;
15、抛光磨具在新领域的发展应用。
为什么要参会?
1、促进行业技术交流,学习同行先进经验,积累新的人脉资源;
2、结识先进设备供应商,把握行业技术发展方向;
3、面对面交流,构建良性产业链经济生态圈,寻找合作商机。
会议报告及嘉宾
稀土铈基CMP抛光材料的制备与应用
梅燕 博士、教授级实验师
北京化工大学
单晶SiC的超精密抛光研究进展
路家斌 教授、博士生导师
广东工业大学
高时代液晶显示玻璃基板用镧铈基稀土抛光粉开发与应用
王宁 博士、研究主管
有研稀土新材料股份有限公司
精密抛光磨具的制备及其在新领域中应用
徐明艳 抛光事业部部长、高工
郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
半导体材料表面抛光及清洗加工技术
张保国 教授、博士生导师
河北工业大学微电子技术与材料研究所
集成电路Cu-CMP用新型抛光液研究
王宁 博士、副研究员
中国科学院深圳先进技术研究院
超精密cmp稀土纳米氧化铈抛光材料研发及其应用
赵朗 博士、副研究员
中国科学院长春应用化学研究所
议题待定
张泽芳 博士、总经理
上海映智研磨材料有限公司
议题待定
尹先升 博士
安集微电子科技(上海)股份有限公司
会议日程
9月18日 10:00-22:00 会议报到
9月19日 08:30-17:30 技术交流
18:00-20:00 招待晚宴
参会费用
会议注册费(含用餐、资料、会务等费用):
8月31日之前 | 8月31日之后 | |
会员 | 2300元/人 | 2500元/人 |
非会员 | 2500元/人 | 2800元/人 |
注:会员为中国电子材料行业协会粉体技术分会的正式缴费单位 |
住宿统一安排,费用自理。
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