ZEMAX光学设计标准成像课程2019（6月武汉班）

-会议内容-

● 主办单位

光研科技南京有限公司  ZEMAX 软件大中华区代理商

南京理工大学      电子工程与光电技术学院

新加坡光学与光子学学会OPSS  

● 课程形式

讲师讲授与学员互动式教学，课程均采用小班授课模式，下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。

●课程特色及内容

☆本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX或简单使用过ZEMAX的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能分析、优化和公差评估。主要内容包括：

1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因及平衡像差的方法。

2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘等等光学术语解释。

3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。

4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。

5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计，像模拟功能实现对成像的实时模拟。

6、非旋转对称系统、多反射镜系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合扫描系统和离轴三反系统实例精细讲解分析。

7、多重组态介绍及多重组态系统案例分析。变焦系统，变倍系统案例分析。激光柱面镜优化方法。消热差分析。

8、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。

●课程说明

课堂上提供最新版的ZEMAX OpticStudio 正版软件，统一发送配套的培训教材

学员自带笔记本电脑，课程结束后颁发培训证书

为保证课程质量，课程均采用小班授课模式，请提前报名

-主办方介绍-