2025计算光学成像技术大讲堂

-会议内容-

在科技飞速发展的当下，光学成像领域正不断迈向新的高度。您是否渴望深入了解光学成像如何突破极限？如何实现更远、更高、更广、更小、更强的卓越性能？如何与各学科交叉，对各应用领域产生实际价值？

作为第二十届武汉光博会同期亮点活动，2025计算光学成像技术大讲堂，将为您揭秘——从基础概念到精准定义，再到深远意义，全方位深度剖析光学成像的极值突破。

本次大讲堂由上海意桐光电科技有限公司联合中国激光杂志社联合举办，将从多个关键维度展开解析：更远的探测距离，让探索的边界无限延伸；更高的分辨率，捕捉每一处细微精彩；更广的成像视场，尽收宏大场景；更小的成像系统，实现便捷与高效的融合；更强的环境适应能力，无惧复杂条件。

基本情况

时间：5月16日（10:30-15:00）

地点：中国光谷科技会展中心 三楼

方式：线下授课，现场答疑

主办单位：中国激光杂志社、上海意桐光电科技有限公司

是否收费：限时免费

主讲嘉宾

刘飞，教授，博士生导师，陕西省杰青，国家级高层次青年人才，西安电子科技大学特聘教授。

个人简介：现任西安电子科技大学计算成像研究所主任，西安市计算成像重点实验室副主任，陕西省先进光电成像专委会常务

副主任，国家重点实验室客座教授，教育部教指委光电信息科学与工程分委会委员。长期从事面向极端环境目标探测以及透散

射、偏振三维等先进成像领域研究，发表学术论文60余篇，累计引用超过2000次，入选2024年度“全球前2%顶尖科学家榜单”。Advanced Imaging期刊副主编，Optics and Lasers in Engineering期刊、Journal of Nanophotonics 期刊、Scientific Report期刊编委，中国激光杂志社青年编委、《光子学报》、《红外与激光工程》等期刊青年编委。近年来累积获得中国光学工程技术发明一等奖，陕西省电子学会科技进步二等奖等一系列奖项。

授课内容

（一）计算成像起源

1.传统成像的发展及问题

2.计算成像的由来与发展

3.计算成像的定义

4.计算成像的本质

5.计算成像的创新性

6.计算成像的体系

（二）更远的探测距离

1.探测距离受限原因

2.散射成像

3.偏振增程

4.偏振三维

（三）更高的分辨率

1.成像分辨率受限原因

2.傅里叶叠层成像

（四）更广的成像视场

1.成像视场受限原因

2.第一代广域高分辨成像系统

3.第二代广域高分辨成像系统

（五）更小的成像系统

1.成像系统体积受限原因

2.计算成像思想设计方法

（六）更强的环境适应能力

1.极低信噪比信息复原

（七）总结与展望

1.计算成像问题总结

2.信息解混叠技术的创新

-主办方介绍-