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随着硅基光子学和光电子集成技术近几年来的迅猛发展,新材料,新结构,新概念的不断涌现,硅基光电子材料及器件的研究得到了越来越多的关注和重视。“全国硅基光电子材料及器件研讨会”是每年举办一次的全国性重大学术活动,迄今已举办了10届。其目的就是为全国从事硅基光电子学领域的研究、教学、生产和应用的科技工作者提供一个学术与技术交流的平台,展示我国在这一领域的新进展和新成就,探讨急需解决的问题和将来的发展方向。
2016年“第十一届全国硅基光电子材料及器件研讨会”拟于2016年6月16日-19日在美丽的六朝古都-南京召开。会议将安排邀请报告、口头报告、张贴报告和专题讨论。本届研讨会将邀请国外知名专家和相关科技工作者共同进行学术交流和探讨,促进相互合作,进一步推进我国在相关领域的科技进步和产业发展。为此热忱欢迎广大学者和研究人员积极参会,踊跃投稿,共同探讨硅基光电子学的发展与未来。
会议承办单位:南京大学电子科学与工程学院
南京大学固体微结构物理国家重点实验室
浙江大学硅材料国家重点实验室
会议名称:2016年第十一届硅基光电子材料及器件研讨会
会议时间:2016年06月16日至06月19日
会议地点:南京市
会议主题:
1)Si基发光材料及器件;
2)Si基异质外延技术与材料;
3)Si基光电子材料的电学与光学性质研究;
4)新型Si基光子与光电子器件(光存储、光调制器、探测器、光开关等);
5)硅基异质结构的设计、实现及其器件应用;
6)Si基微纳结构的构建及其在光电子器件中的应用;
7)其它新型硅基光电子材料和器件;
8)Si基光电集成技术;
6月16日:报到;
6月17-18日:会议报告和讨论;
6月19日:会议结束离会;
会议注册费: 一般参加者:1200元;学生: 800元。 会议期间统一安排食宿,费用自理。
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